ABADLI, S. et MANSOUR, F. (2007) « AN ADVANCED MODEL FOR DOPANT DIFFUSION IN HEAVILY IMPLANTED POLYCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS », Sciences & Technologie. B, Sciences de l’ingénieur, (26), p. 23–30. Disponible à: https://revue.umc.edu.dz/b/article/view/228 (Consulté le: 3 mai 2024).