ÉLABORATION ET CARACTERISATION DE REVETEMENT DURES TI-AL ET TIALN.
Keywords:
PVD, TiAl, TiAlN, contraintes résiduelles, anneaux de NewtonAbstract
Ce travail porte sur l’étude des revêtements durs de Titane-aluminium et les nitrures Titane-aluminium, ces revêtements sont élaborés par PVD. Des films de TiAl et leurs nitrures ont été préparés par pulvérisation RF. L’influence de l’épaisseur des films et des recuits thermiques ont été effectués pour différentes températures pour étudier la stabilité des films élaborés. L’influence des paramètres de dépôt sur des propriétés mécaniques et structurales, telles que la structure, les contraintes résiduelles a été également étudiées. L’analyse EDS des films Ti-Al révèle la présence d’oxygène dans les films. L’épaisseur des films Ti-Al augmente avec le temps de dépôt. Par contre, l’épaisseur des films diminue avec le taux d’azote. Au MEB, cet effet de l’azote est matérialisé, sur une coupe transversale où l’épaisseur des films Ti-Al-N est bien inférieure à celle des couches Ti-Al. Des essais au scratch-test montrent que le dopage favorise l’adhérence des revêtements Ti-Al.
Downloads
References
B. C. Schramma, H. Scheererb, H. Hocheb, Surface & Coatings Technology 188 - 189, 623 - 629 (2004).
P. Hones, R. Sanjines, F. Levy, Thin Solid Films, Volume 332, 240-246, (1998),
Y.C. Chim , X.Z. Ding , X.T. Zeng, S. Zhang Thin Solid Films 517, 4845–4849 (2009).
Maissel, LI., Glang R, 1970 “Handbook of Thin Film Technology”, Mac Graw Hill.
Nouveau, C., 2001, « Etude de revêtements durs (CrxNy) obtenus par méthodes PVD : réalisation et caractérisations, applications à l'usinage du bois », Thèse de doctorat n°21- 2001.
Stoney, G., R. Proc, 1909. Soc. A82, p 172,.
Li Chen , Jörg Paulitsch , Yong Du , Paul H. Mayrhofer , Surface & Coatings Technology206, 2954–2960, (2012).
L. Chekour, C. Nouveau, A. Chala, C. Labidi, N. Rouag, M.A. Djouadi ;
“Growth mechanism for chromium nitride films deposited by magnetron and triode sputtering methods”, Surface and Coatings Technology, Volume 200, Issues 1-4, 1 October 2005,Pages 241-244
Benlatreche, Y., 2006, thèse de magistère, Université Mentouri, Constantine.
Djouadi, M.A. et al., 2006, Residual stress control in Mo-Cr thin films deposited by ionized magnetron sputtering. Laboratoire des Plasmas et Couches Minces, Institut des Matériaux Jean Rouxel, UMR 6502-CNRS, Université de Nantes.
A. Horling, L. Hultman M. Ode, J. Sjolén, L. Karlsson, Surface & Coatings Technology
, 384–392 (2005).
Guitoum, Y., 2008, thèse de magister, université Mentouri de Constantine.
