ANALYSE DES CONTRAINTES RESIDUELLES ET LA RESISTIVITE ELECTRIQUE DES FILMS DE CHROME DEPOSES PAR PVD

Abstract

Lors de la synthèse de couches minces plusieurs paramètres d'élaboration sont à prendre en considération. Ces paramètres influencent sensiblement la croissance de ces couches et leurs propriétés. Pour analyser l’influence de quelques paramètres d’élaboration, des couches de chrome ont été déposées par pulvérisation RF. On s’intéresse particulièrement à l’effet de l’épaisseur des couches et de la puissance appliquée à la cible, sur le niveau des contraintes résiduelles induites et la résistivité électrique des films. On montre que les contraintes résiduelles sont de nature compressive, et ne sont pas constantes lors de la variation de l’épaisseur et de la puissance RF. En effet, un pic de contrainte a été observé pour des épaisseurs variant entre 110 - 250nm, et un autre pic pour une puissance de l’ordre de 200W. D’autre part, la résistivité électrique des films varie entre 40 et 330μWcm, et décroît sensiblement avec l’épaisseur, pour devenir stable à 40μWcm. Elle est en légère augmentation en fonction de la puissance appliquée à la cible.