ETUDE DU VIEILLISSEMENT DES TMOS ULTRA-COURTS

Auteurs-es

  • N GUENIFI Université Ferhat Abbas, Sétif
  • F DJAHLI Université Ferhat Abbas, Sétif
  • M HEMISSI Université Ferhat Abbas, Sétif

Mots-clés :

TMOS, Pompage de charges, Vieillissement

Résumé

Dans ce travail, nous avons mis en œuvre un modèle de la technique de pompage de charge pour le TMOS. Ce modèle, implanté dans le simulateur SPICE3F4, prend en considération la majorité des effets physiques décrivant le comportement réel du dispositif. La validation de notre modèle nous a fourni des résultats concernant le courant pompé Icp, en négligeant l’effet de la température sur les paramètres du TMOS, en fonction des niveaux haut et bas de l’impulsion de grille Vgh et Vgl et en fonction de la température. Nos résultats sont comparés à des résultats expérimentaux, analysés et commentés de manière à pouvoir en tirer des conclusions pratiques qui sont de nature à intéresser tous ceux qui sont appelés à réaliser des circuits de technologie VLSI.

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Bibliographies de l'auteur-e

N GUENIFI, Université Ferhat Abbas, Sétif

Département d'Electronique
Faculté des Sciences de l'Ingénieur

F DJAHLI, Université Ferhat Abbas, Sétif

Département d'Electronique 
Faculté des Sciences de l'Ingénieur

M HEMISSI, Université Ferhat Abbas, Sétif

Département de Physique
Faculté des Sciences

Références

- Groeseneken G., Herman E.M., Beltran N. and Keersmaecker R., "A Reliable Approach to Charge-Pumping Measurements in MOS Transistors", IEEE Transaction On Electron Devices, Vol. ED-31, N°1, (1984), pp. 42-53.

- Groeseneken G. and Maes H.E., "Basic and applications of charge pumping in submicron MOSFET’s", Microelectronics Reliability, Vol. 38, (1998), pp. 1379-1389.

- Djahli F., Autran J.L., Plossu C. and Balland B., "Use of charge pumping technique to understand non-uniform n-channel MOSFET degradation", Materials Sciences and Engineering, B23, (1992), pp. 120-122.

- Autran J.L., Balland B. and Barbottin G., Vapaille A. (Editors), "Instabilities in Silicon Devices (North-Holland: Elsevier Science Publishers B.V.), "Charge pumping techniques, their use for diagnosis and interface states in MOS transistors", (1999).

- Djahli F. and Kaabi L., "A macro model in SMART SPICE to study the MOSFET degradation with CP technique", Int. Journal electronics, Vol. 82, N°5 (1997), pp. 471-481.

- Sze S.M., "Physics of Semiconductor Devices", New-York, Wiley & Sons, (1966).

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Publié-e

2002-06-01

Comment citer

GUENIFI, N., DJAHLI, F., & HEMISSI, M. (2002). ETUDE DU VIEILLISSEMENT DES TMOS ULTRA-COURTS. Sciences & Technologie. A, Sciences Exactes, (17), 87–92. Consulté à l’adresse https://revue.umc.edu.dz/a/article/view/1792

Numéro

Rubrique

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