ELABORATION PAR RF MAGNETRON ET CARACTERISATIONS DES REVETEMENTS DURS Mo-Cr-N
Mots-clés :
Mo-Cr-N, pulvérisation, magnétronRésumé
Des couches ternaires de Mo-Cr-N ont été élaborées par PVD magnétron. L’analyse EDS des films Mo-Cr révèle l’existence du chrome et du molybdène. Ceci est en accord avec la composition de la cible (Cr 20% at. Mo 80 % at). L’épaisseur des films Mo-Cr-N augmente avec le temps de dépôt. Leur cristallinité se trouve améliorée. La présence de l’azote diminue l’épaisseur des films et augmente la largeur des colonnes. On note que la taille des grains augmente avec la température du recuit. Par contre la distance interréticulaire diminue. Au MEB, il a été montré que la structure des films Mo-Cr-N est en « têtes de chou-fleur ». Chaque « tête de chou-fleur » est elle-même constituée de nodules qui terminent des colonnes plus fines. L’effet d’ombrage, et la relaxation des contraintes peuvent être à l’origine de l’existence de la discontinuité de la matière observée. Les recuits à différentes températures augmentent la cristallinité des films. La diffraction des RX n’a pas révélé de présence de phases d’oxydes. Ce qui indique une bonne stabilité thermique des films élaborés. Mais l’apparition progressive, en fonction de la température de recuit, des fissures montre une mauvaise adhérence des ces films sur le substrat de silicium.
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Références
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