ANALYSE DES CONTRAINTES RESIDUELLES ET LA RESISTIVITE ELECTRIQUE DES FILMS DE CHROME DEPOSES PAR PVD
Mots-clés :
Chrome, PVD, contraintes résiduelles, résistivité, Chromium, residual stresses, resistivity, كروم, الإجھادات المتبقیة, المقاومیة الكھربائیةRésumé
Lors de la synthèse de couches minces plusieurs paramètres d'élaboration sont à prendre en considération. Ces paramètres influencent sensiblement la croissance de ces couches et leurs propriétés. Pour analyser l’influence de quelques paramètres d’élaboration, des couches de chrome ont été déposées par pulvérisation RF. On s’intéresse particulièrement à l’effet de l’épaisseur des couches et de la puissance appliquée à la cible, sur le niveau des contraintes résiduelles induites et la résistivité électrique des films. On montre que les contraintes résiduelles sont de nature compressive, et ne sont pas constantes lors de la variation de l’épaisseur et de la puissance RF. En effet, un pic de contrainte a été observé pour des épaisseurs variant entre 110 - 250nm, et un autre pic pour une puissance de l’ordre de 200W. D’autre part, la résistivité électrique des films varie entre 40 et 330μWcm, et décroît sensiblement avec l’épaisseur, pour devenir stable à 40μWcm. Elle est en légère augmentation en fonction de la puissance appliquée à la cible.Téléchargements
Références
S. Hoshino, H. A. laintinen, G. B. Hofflund, J. electrochem. Soc, 133 (1986) 681.
G. Cholvy, J. L. Derep, M. Gantoi, Thin Solid Films, 126 (1985) 51.
K. Nakamura, K. Inagawa, K. tsurouka, S. Komiya, Thin Solid Films, 40 (1977) 155.
N. Marchal, E. Quesnel, Y. Pauleau, J. Mater. Res, 9 (1994) 1820.
W. J. Meng, J. A. Sell, T. A. Perry, Journal of Applied Physics 75 (7) (1994) 3446-3455.
W. J. Meng, J. A. Sell, G. –L. Eesley, T. A. Perry, Journal of Applied Physics 74 (4) (1993) 2411-2414.
P. Hones, Thèse de Doctorat n° 2116, Ecole Polytechniques Fédérale de Lausanne, 2000.
A. Gulya, I. Marchenko, I. Nekludov, Surface and Coatings Technology 173-174 (2003) 1248-1252.
D. Gall, C. –S. Shin, R. T. Haasch, I. Petrov, J. Green, J. appl. Phys. 91 (9) (2002) 5882.
L. Holland, vacuum Deposited Thin Films, Champmann et Hall, London (1966).
G. Bertrand, C. Savall, C. Meunier, Surface and Coatings technology 96 (1997) 323-329.
K. H. Muller, Applied Physics A40 (1986) 209-213.
C. P. Constable, D. B. Lewis, J. Yarwood, W. D. Munz, Surface and Coating Technology 184 (2004) 291-297.
M. Oden, C. Ericsson, G. Hakansson, H. Ljungcrantz, Surface and Coatings Technology 114 (1999) 39-51.
M. Oden, J. ALmer, G. Hakansson, M. Olsson, Thin Solid Films 377-378 (2000) 407-412.
C. M. Cotell, J. K. Hirvonen, Surface and Coatings Technology 81 (1996) 118-125.
