STABILITE THERMIQUE DE FILMS MINCES DE NITRURE DE CHROME (Cr-N)

Auteurs-es

  • F.Z MAMMERI Université Constantine 1
  • L CHEKOUR Université Constantine 1
  • N ROUAG Université Constantine 1

Mots-clés :

Films minces, CrN, Pulvérisation magnétron, MEB, EDX

Résumé

Cette étude porte sur la stabilité thermique de couches minces dures de nitrure de chrome Cr-N, élaborées par dépôt physique en phase vapeur PVD (Physical Vapour deposition).
Nous avons suivi l’influence de la température de recuit sur la morphologie de films CrN, déposés sur des substrats de silicium par pulvérisation magnétron. Nous avons procédé à des caractérisations en microscopie électronique à balayage (MEB) équipé en microanalyse X (EDX). Des recuits sous azote d’une heure, entre 600°C et 1000°C, effectués sur des revêtements CrN d’épaisseur 530 nm, ont montré la stabilité thermique de ces revêtements aux basses températures. A partir de 1000°C la phase CrN cède complètement la place à la phase Cr2O3. Les résultats obtenus en MEB et EDX sont comparés à ceux obtenus par DRX.

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Bibliographies de l'auteur-e

F.Z MAMMERI, Université Constantine 1

Laboratoire des Couches Minces et Interfaces

L CHEKOUR, Université Constantine 1

Laboratoire des Couches Minces et Interfaces

N ROUAG, Université Constantine 1

Laboratoire des Couches Minces et Interfaces

Références

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13-17 Novembre 2006 – Dijon, France.

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Publié-e

2008-06-01

Comment citer

MAMMERI, F., CHEKOUR, L., & ROUAG, N. (2008). STABILITE THERMIQUE DE FILMS MINCES DE NITRURE DE CHROME (Cr-N). Sciences & Technologie. A, Sciences Exactes, (27), 35–40. Consulté à l’adresse https://revue.umc.edu.dz/a/article/view/60

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